目前，潔凈車間已廣泛應用于各個行業(yè)，以防止顆粒污染或其他要求，防止顆粒污染，控制微生物對環(huán)境的污染。目前無塵車間的最高級別是航天的航空倉庫，基本屬于一級，屬于特殊領域，面積相對較小。此外，生化實驗室和高精度納米材料生產(chǎn)車間對水平的要求更高。 物聯(lián)網(wǎng)芯片的發(fā)展將是未來需求的一個主要方向。 對于潔凈室凈化空調系統(tǒng)的加濕問題，常用的加濕方法有很多，包括淋水，濕膜，高壓噴霧超聲波等水加濕。這些加濕方式屬于等焓加濕過程。而蒸汽噴淋，干蒸汽噴淋，電極（電加熱）加濕是蒸汽噴入空調送風中，加濕方式屬于等溫加濕過程。無塵室凈化工程中各級空氣潔凈度的空氣凈化處理應采用初效，中效，高效空氣過濾器三級過濾。 10萬級的空氣凈化處理，可以用次高效空濾代替高效空濾。

1.半導體集成電路所需的空氣清潔度

集成電路生產(chǎn)環(huán)境對空氣清潔度的要求主要取決于集成電路的集成。不同工藝的空氣清潔度水平取決于可能污染的可能性和設備的潛在故障。

例如：

第一廠前，集成電路工藝清洗廠，無塵車間，按工藝設計，生產(chǎn)6英寸硅片，1米集成電路，圖形專用尺雨1.0μm，控制粒度0.1

潔凈室空氣潔凈度等級要求：

GB/T1482-1988光刻，膠水面積ISO_3

GB/T1397-1988離子注入、刻蝕CVD、外延和擴散用ISO_3級操作區(qū)

離子注入，刻蝕CVD，膨脹，擴散等.維護區(qū)5

例2.清潔車間前的集成電路、無塵車間設計和生產(chǎn)5英寸硅片、256 K集成電路、圖形專用標尺2.0μm。粒度控制在0.2um左右。該工藝設計用于生產(chǎn)粒度為0.2μm的5英寸硅片和256 K集成電路。

潔凈室空氣潔凈度等級要求：

GB/T1484-1988光刻及平直面積ISO_3級

離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等操作區(qū)4

離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等維護領域ISO 6。

二.某些電子產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)境中的空氣清潔

隨著信息技術的發(fā)展，許多電子產(chǎn)品性能和質量的提高，以及生產(chǎn)工藝的小型化，對生產(chǎn)環(huán)境的空氣清潔度和控制供應的要求越來越高。無塵車間生產(chǎn)過程中所需各種高純度材料的質量。目前國內外還沒有統(tǒng)一的電子產(chǎn)品供氣模式。根據(jù)空氣潔凈度等級的統(tǒng)一規(guī)定或生產(chǎn)環(huán)境控制的要求，各類電子產(chǎn)品制造商根據(jù)產(chǎn)品品種、生產(chǎn)工藝和產(chǎn)品特點，確定無塵車間的空氣潔凈度等級。具有生產(chǎn)工藝設備、生產(chǎn)輔料、無塵車間的實際操作經(jīng)驗.

例如：

例如，在生產(chǎn)薄膜晶體管彩色液晶顯示器的無塵車間中，TFT-LCD具有體積小、重量輕、攜帶方便、功耗低、色彩逼真、容量大、分辨率高等優(yōu)點。