目前，潔凈車間已廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)，以防止顆粒污染或其他要求，防止顆粒污染，控制微生物對(duì)環(huán)境的污染。目前無(wú)塵車間的最高級(jí)別是航天的航空倉(cāng)庫(kù)，基本屬于一級(jí)，屬于特殊領(lǐng)域，面積相對(duì)較小。此外，生化實(shí)驗(yàn)室和高精度納米材料生產(chǎn)車間對(duì)水平的要求更高。 物聯(lián)網(wǎng)芯片的發(fā)展將是未來(lái)需求的一個(gè)主要方向。 對(duì)于潔凈室凈化空調(diào)系統(tǒng)的加濕問(wèn)題，常用的加濕方法有很多，包括淋水，濕膜，高壓噴霧超聲波等水加濕。這些加濕方式屬于等焓加濕過(guò)程。而蒸汽噴淋，干蒸汽噴淋，電極（電加熱）加濕是蒸汽噴入空調(diào)送風(fēng)中，加濕方式屬于等溫加濕過(guò)程。無(wú)塵室凈化工程中各級(jí)空氣潔凈度的空氣凈化處理應(yīng)采用初效，中效，高效空氣過(guò)濾器三級(jí)過(guò)濾。 10萬(wàn)級(jí)的空氣凈化處理，可以用次高效空濾代替高效空濾。

1.半導(dǎo)體集成電路所需的空氣清潔度

集成電路生產(chǎn)環(huán)境對(duì)空氣清潔度的要求主要取決于集成電路的集成。不同工藝的空氣清潔度水平取決于可能污染的可能性和設(shè)備的潛在故障。

例如：

第一廠前，集成電路工藝清洗廠，無(wú)塵車間，按工藝設(shè)計(jì)，生產(chǎn)6英寸硅片，1米集成電路，圖形專用尺雨1.0μm，控制粒度0.1

潔凈室空氣潔凈度等級(jí)要求：

GB/T1482-1988光刻，膠水面積ISO_3

GB/T1397-1988離子注入、刻蝕CVD、外延和擴(kuò)散用ISO_3級(jí)操作區(qū)

離子注入，刻蝕CVD，膨脹，擴(kuò)散等.維護(hù)區(qū)5

例2.清潔車間前的集成電路、無(wú)塵車間設(shè)計(jì)和生產(chǎn)5英寸硅片、256 K集成電路、圖形專用標(biāo)尺2.0μm。粒度控制在0.2um左右。該工藝設(shè)計(jì)用于生產(chǎn)粒度為0.2μm的5英寸硅片和256 K集成電路。

潔凈室空氣潔凈度等級(jí)要求：

GB/T1484-1988光刻及平直面積ISO_3級(jí)

離子注入、刻蝕CVD、外延、擴(kuò)散等操作區(qū)4

離子注入、刻蝕CVD、外延、擴(kuò)散等維護(hù)領(lǐng)域ISO 6。

二.某些電子產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)境中的空氣清潔

隨著信息技術(shù)的發(fā)展，許多電子產(chǎn)品性能和質(zhì)量的提高，以及生產(chǎn)工藝的小型化，對(duì)生產(chǎn)環(huán)境的空氣清潔度和控制供應(yīng)的要求越來(lái)越高。無(wú)塵車間生產(chǎn)過(guò)程中所需各種高純度材料的質(zhì)量。目前國(guó)內(nèi)外還沒(méi)有統(tǒng)一的電子產(chǎn)品供氣模式。根據(jù)空氣潔凈度等級(jí)的統(tǒng)一規(guī)定或生產(chǎn)環(huán)境控制的要求，各類電子產(chǎn)品制造商根據(jù)產(chǎn)品品種、生產(chǎn)工藝和產(chǎn)品特點(diǎn)，確定無(wú)塵車間的空氣潔凈度等級(jí)。具有生產(chǎn)工藝設(shè)備、生產(chǎn)輔料、無(wú)塵車間的實(shí)際操作經(jīng)驗(yàn).

例如：

例如，在生產(chǎn)薄膜晶體管彩色液晶顯示器的無(wú)塵車間中，TFT-LCD具有體積小、重量輕、攜帶方便、功耗低、色彩逼真、容量大、分辨率高等優(yōu)點(diǎn)。