凈化工程潔凈室的溫濕度主要是根據(jù)你的加工工藝要求來確定的。在滿足加工工藝的情況下，首先要考慮人的舒適度。隨著空氣潔凈度要求的提高，工藝對溫濕度的要求越來越高，必須達到一定的溫濕度。例如，在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光過程中，作為掩模材料的玻璃與硅片之間的熱膨脹系數(shù)差異越來越小。 直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。

 

濕度過大會造成更多的問題。當(dāng)相對濕度超過55%時，凈化工程的冷卻水壁會凝結(jié)，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，會引起各種事故。相對濕度為50%時容易生銹。凈化工程中控制溫濕度的具體措施是什么？

 

然而，對于大多數(shù)清潔空間，為了防止外部污染的入侵，必須保持內(nèi)部壓力(靜壓)高于外部壓力(靜壓)。維持壓差一般應(yīng)符合以下原則：

 

1.高度清潔的空間的壓力高于清潔程度較低的空間的壓力。

 

第二，潔凈室之間的門應(yīng)該向高度清潔的房間敞開。

 

3.清潔空間的壓力高于不清潔空間的壓力。

 

壓差的維持取決于新風(fēng)量，在這種壓差下，新風(fēng)量應(yīng)能補償間隙泄漏的氣流。因此，壓差的物理含義是空氣透過潔凈室各種間隙的阻力。

 

對于湍流潔凈室來說，由于它主要依靠稀釋空氣來降低室內(nèi)污染程度，所以它主要采用通風(fēng)次數(shù)的概念，而不是直接使用速度的概念，而且對室內(nèi)氣流速度也有以下要求；風(fēng)口處的氣流速度不應(yīng)該太大。與簡單的空調(diào)房間相比，速度衰減更快，擴散角更大。二.通過水平平面的氣流速度(如側(cè)送時的回流速度)不應(yīng)過大，以免將表面顆粒吹回氣流中，造成再污染，一般不適合干燥0.2米/秒。